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低硬度的氧化铝也是抛光好手

时间:2022-04-29 来源网站:达州化工机械网

低硬度的γ氧化铝也是抛光好手!

作为研磨抛光用途的材料,我们通常希望它是硬度大一点的,这样处理起材料来效率会比较高,我们可不期待它慢吞吞的去除材料中我们不想要的部分,天下武功唯快不破,“工作效率”可是很重要的。因此我们会使用金刚石(莫氏硬度10)、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅,当然还有α-氧化铝(莫氏硬度9)等高硬度材料来作为研磨抛光材料,高硬度的磨料让我们可以高效率对材料进行研磨抛光处理。

磨料的一个重要考量指标是“硬度”,但在一些特定的应用场合,磨料的其它指标也相当的重要,例如在精密光学器件,金相切片,电光晶体,硅晶片或其他半导体晶片,宝石,电子线路板、亚克力晶片等的最终抛光处理过程,为保证获得的“完美抛光”的制件,通常需要选用更高纯度、更小的粒径及更窄粒径分布的磨料粒子中国机械网okmao.com。

高硬度的α-氧化铝和稍软的伽马氧化铝(摩氏硬度8)都可以用作抛光粉或悬浮液。α-氧化铝抛光粉一般可以通过煅烧或者熔融氧化铝经过适当的粉碎、分级获得。相比于熔融氧化铝,煅烧氧化铝的颗粒尺寸及分布的可控性更强。尽管α-氧化铝凭借其高硬度、稳定性好等优点,已被广泛应用于集成电路和玻璃基片等元器件的表面抛光,但由于煅烧氧化铝前驱体向α氧化铝转化时需要在1000℃以上的高温,在如此高温下,前驱体极易发生硬团聚,难以去除的大颗粒将会影响α氧化铝的粒度分布,难免会影响抛光的精度。这些由强化学键结合的硬团聚一般外力难以打开,需要经过特殊工艺处理才能减少或消除。此外,由于α氧化铝晶格能大,硬度大,无论是振动磨、球磨还是气流磨大多只能打开原晶的聚合体,很难破坏其原晶结构,所以如需制取粒度要求严格的α氧化铝粉体,在焙烧过程对原晶大小的工艺控制就很关键了,是个技术活。目前在许多产品介绍中,我们可以看到在特定的工艺条件下制取的煅烧氧化铝粉体,其去除团聚后其平均粒径可达0.3μm左右。

反观γ-氧化铝,尽管它硬度稍小,但由于其转化温度较低,因此其粒径也可以做到非常的小,而且伽马氧化铝的粒度分布也可以做到非常的窄,因此γ-氧化铝可以应用于一些非常精细的抛光要求场景,在许多厂家的介绍资料中,我们可以知道γ氧化铝悬浮抛光液平均粒径可以做到0.05μm。0.05μm的氧化铝悬浮液既可以单独作为机械抛光液使用,也可以配合0.05μm的二氧化硅制备成悬浮混合物,用于化学机械抛光应用场合,添加了γ氧化铝的化学机械抛光液与普通的硅溶胶相比,其抛光效率更高 。

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